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美國kimball physics ELG-2電子槍系統

噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

ELG-2 / EGPS-1022

能量范圍： 1 eV 至 2k eV
光束電流： 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸： 0.5 mm 至 5 mm
安裝： 2?CF，可拆卸選項
特性/選項：用于能量掃描、偏轉、光柵化、高速脈沖的變焦鏡頭聚焦

美國kimball physics ELG-2電子槍系統

Kimball Physics 電子槍，其設計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍：

● 能量范圍：1 eV 至 100 keV
● 射束電流范圍：1 nA 至 20 mA
● 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

優勢：

● 客戶可更換的點火裝置
● 操作期間的機械對準
● 可存儲的控制設置
● 電腦遙控/計量

性能：

● 光束電流穩定性：反饋穩定的發射電流控制；優于每小時 ± 0.1%
● 能量穩定性：每小時 ± 0.01%，滿輸出時每 8 小時 ± 0.02%，以最大限度地減少色差

應用：

● 快速脈沖/光束消隱
● 偏轉/光柵
● 槍式法拉第杯

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美國kimball physics ELG-2電子槍系統

噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

ELG-2 / EGPS-1022

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噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。